據(jù)寧波前灣新區(qū)管理委員會7月15日消息，近日寧波冠石半導(dǎo)體有限公司迎來關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)，引入首臺電子束掩模版光刻機(jī)。據(jù)悉，該設(shè)備是光掩模版40nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)量產(chǎn)及28nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)研發(fā)的重點(diǎn)設(shè)備。

光掩模版是集成電路制造過程中光刻工藝所使用的關(guān)鍵部件，類似于相機(jī)“底片”，光線經(jīng)過掩膜版后，可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前，我國高精度半導(dǎo)體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進(jìn)口，國產(chǎn)化率極低。

據(jù)了解，冠石半導(dǎo)體主要從事45nm~28nm半導(dǎo)體光掩模版的規(guī)?；a(chǎn)。當(dāng)前，冠石半導(dǎo)體一期潔凈車間設(shè)計產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180nm~28nm集成電路掩模版。據(jù)冠石相關(guān)負(fù)責(zé)人介紹，企業(yè)正加速推進(jìn)海外布局戰(zhàn)略，并在世界一流半導(dǎo)體光掩模版制造技術(shù)班底的加持下，預(yù)計今年底，企業(yè)將陸續(xù)實現(xiàn)為國內(nèi)外中高端集成電路掩模版提供制版服務(wù)。

此次引入電子束掩模版光刻機(jī)，冠石半導(dǎo)體將成為國內(nèi)技術(shù)能力先進(jìn)的獨(dú)立光掩模版生產(chǎn)企業(yè)，可填補(bǔ)國內(nèi)高階制程光掩模空白，打破國外高端光掩模版的壟斷局面，提高我國半導(dǎo)體光掩模產(chǎn)業(yè)的安全和可控性。

公開媒體此前報道，南京冠石科技股份有限公司于2023年5月16日與寧波前灣新區(qū)管理委員會簽署《投資協(xié)議書》，投資建設(shè)半導(dǎo)體光掩膜版制造項目。該項目實施主體為寧波冠石半導(dǎo)體有限公司，項目總投資約20億元，先期投資16億元，擬用地約68.8畝，建設(shè)周期計劃為60個月，主要生產(chǎn)45nm~28nm成熟制程的半導(dǎo)體光掩膜版。